電子束光刻機的曝光質量，很大程度上取決于樣品處理的規范性，樣品處理不到位，會直接導致圖形失真、精度下降、設備故障等問題，核心要點如下。

樣品清潔是基礎，必須徹底去除基片表面的灰塵、油污、水分和雜質。可用專用清潔試劑擦拭，必要時進行烘干處理，確保表面干燥潔凈，避免雜質導致曝光缺陷、污染真空腔體。

非導電樣品必須做導電處理，比如噴涂導電膜，防止電子束照射時表面電荷積累，導致圖像發白、閃爍、邊緣模糊，甚至損傷樣品和探測器。導電膜厚度要均勻，避免過厚影響圖形精度。

樣品尺寸和厚度要符合設備要求，不可超出樣品臺承載范圍，高度要適中，避免過高導致碰撞電子槍或影響電子束聚焦，過低則可能影響對準精度。

樣品固定要牢固、平整，避免運行過程中出現松動、偏移，導致曝光位置偏差。固定時動作輕柔，不要擠壓、損傷樣品表面，尤其脆弱樣品需做好防護。

涂膠工藝要規范，光刻膠涂覆要均勻，厚度控制合理，烘干溫度和時間要精準，避免膠層氣泡、開裂，否則會影響顯影效果，導致線條不清晰、邊緣粗糙。

樣品處理完成后，需在潔凈環境中快速裝樣，減少暴露在空氣中的時間，避免再次污染，確保曝光質量穩定。