電子束光刻機(jī)依靠聚焦電子束轟擊光刻膠完成圖形直寫加工，電子到達(dá)基底后會發(fā)生散射，一部分電子向前穿透光刻膠，另一部分電子在基底內(nèi)部發(fā)生背散射，向四周擴(kuò)散，使圖形周邊光刻膠也受到額外曝光劑量，這就是鄰近效應(yīng)。該現(xiàn)象會造成線條尺寸偏移、拐角發(fā)生圓化、密集圖形和孤立線條線寬不一致，是實(shí)際加工中高頻遇到的工藝難題。不同品牌型號設(shè)備電子光學(xué)系統(tǒng)、加速電壓檔位、束流條件存在區(qū)別，同等樣品條件下散射影響程度各不相同，校正參數(shù)不能直接照搬套用。

加速電壓直接影響電子散射范圍，高壓條件下電子穿透更深，背散射作用范圍更大；低壓模式散射半徑縮小，但束斑質(zhì)量會受到一定影響。開展精細(xì)圖形加工時，需要結(jié)合基底材質(zhì)、光刻膠厚度，合理選定加速電壓。對于硅基底、石英基底，同樣曝光參數(shù)下產(chǎn)生的散射效果存在明顯差異，基底越厚，背散射帶來的額外曝光越明顯。

鄰近效應(yīng)校正主要分為劑量調(diào)制、圖形幾何修正兩類手段。劑量校正會對孤立線條、密集陣列、拐角區(qū)域分配不同曝光劑量，補(bǔ)償散射帶來的多余能量；圖形修正是提前對設(shè)計(jì)圖形做預(yù)變形，抵消曝光之后的圖形畸變。不同品牌配套軟件內(nèi)置校正算法不一樣，部分機(jī)型支持全自動劑量計(jì)算，部分機(jī)型需要手動分區(qū)設(shè)置曝光劑量。

實(shí)際加工調(diào)試過程，優(yōu)先采用標(biāo)準(zhǔn)測試版圖做線寬標(biāo)定，實(shí)測不同圖形的真實(shí)線寬，以此迭代校正參數(shù)，不能直接套用理論計(jì)算數(shù)值。光刻膠厚度同樣不可忽視，膠層過厚會放大散射帶來的尺寸偏差。同時束流大小也會對結(jié)果造成影響，大束流加工效率更高，但位置采樣點(diǎn)數(shù)降低，細(xì)小圖形的尺寸控制難度上升。完成校正之后，使用相同基底、相同光刻膠開展驗(yàn)證曝光，測量關(guān)鍵尺寸，確認(rèn)校正效果，再開展正式工件加工。