電子束光刻機(jī)（EBL）?憑借無掩模直寫、超高精度圖形加工、高靈活性的核心技術(shù)優(yōu)勢(shì)，廣泛應(yīng)用于前沿科研、高端制造、光電子等多個(gè)領(lǐng)域，是支撐各類技術(shù)研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化落地的重要設(shè)備，其核心應(yīng)用場(chǎng)景主要涵蓋以下五大板塊。
MORE INFO → 行業(yè)動(dòng)態(tài) 2026-03-10
掃描電鏡（SEM）分辨率的高低直接影響樣品表面微觀結(jié)構(gòu)的觀察效果。提高分辨率需要從電子光學(xué)系統(tǒng)、樣品處理和成像條件等多個(gè)方面綜合優(yōu)化，不同品牌和型號(hào)的 SEM 在電子槍類型、加速電壓和透鏡設(shè)計(jì)上有所差異，因此優(yōu)化方法需結(jié)合具體設(shè)備參數(shù)。
MORE INFO → 行業(yè)動(dòng)態(tài) 2026-03-09
掃描電鏡（SEM）低真空模式適用于不導(dǎo)電或弱導(dǎo)電樣品、易充電材料以及含水或易揮發(fā)物質(zhì)的樣品。
MORE INFO → 行業(yè)動(dòng)態(tài) 2026-03-06
電子束光刻機(jī)的曝光過程，是將電子束按照設(shè)計(jì)圖形在光刻膠上精確掃描，使光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而形成微納結(jié)構(gòu)的過程。
MORE INFO → 行業(yè)動(dòng)態(tài) 2026-03-06
電子束光刻機(jī)?在工作過程中需要對(duì)電子束進(jìn)行聚焦，這是為了獲得足夠高的分辨率和精確的圖形寫入能力。電子束在從電子槍發(fā)射出來后會(huì)逐漸發(fā)散，如果不經(jīng)過電磁透鏡系統(tǒng)進(jìn)行聚焦，電子束直徑會(huì)變大，在光刻膠表面形成較大的曝光區(qū)域，從而降低圖形精度。
MORE INFO → 行業(yè)動(dòng)態(tài) 2026-03-06
當(dāng)掃描電鏡樣品尺寸過大時(shí)，固定樣品的關(guān)鍵是確保穩(wěn)定、導(dǎo)電和安全，避免震動(dòng)、位移或接觸不良。
MORE INFO → 行業(yè)動(dòng)態(tài) 2026-03-04
電子束光刻機(jī)的圖形縮放比例校準(zhǔn)，本質(zhì)是校正掃描偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)的“實(shí)際位移增益”，讓電子束在基底上的真實(shí)偏轉(zhuǎn)距離與設(shè)計(jì)坐標(biāo)完全一致。
MORE INFO → 行業(yè)動(dòng)態(tài) 2026-03-04
電子束光刻機(jī)對(duì)基底導(dǎo)電性有一定要求，尤其是在高分辨率加工和高電壓曝光條件下更為明顯。
MORE INFO → 行業(yè)動(dòng)態(tài) 2026-03-04
